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2016年下半半导体产业链弥漫着乐观气息

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文章出处:骊微电子责任编辑:admin人气:-发表时间:2016-07-20 14:54
    2016年下半半导体产业链弥漫着乐观气息,晶圆制造、封测、通路、设备厂全面备战,迎接消费性电子传统旺季,并随着半导体业者力拚10/7纳米先进制程,电子束检测设备几大龙头业者,纷纷祭出新产品,替接下来的长期发展铺路。
 
    应用材料(Applied Materials)发表新一代电子束检测系统,表示可提供业界最高的解析功能,其推出的PROVision系统,是唯一具备1纳米解析度的电子束检测机台。锁定10纳米及以下的多重曝光、FinFET制程、DRAM与3D NAND元件等。
 
    应材表示,PROVision系统可提供最多快上3倍的生产力,对于客户锁定先进制程、良率提升都有帮助。目前已经有客户采用,出货量已达十几台,并包括来自龙头晶圆代工厂与存储器制造商的重复订单。
 
    科磊(KLA-Tencor)也将推出6套先进的晶圆缺陷检测和检查系统,采用宽频电浆光学和雷射扫描,和无图案晶圆检测仪和电子显微镜和分类工具等,亦是锁定半导体10纳米制程以下缺陷的光学侦测,并精准调整研发与工程设计工作的方向,可缩短缺陷检测所需时间。
 
    两大美系大厂事实上都锁定晶圆代工龙头台积电而来,先前被ASML收购的汉微科首当其冲,不过汉微科原本有85%以上的电子束检测设备市场市占率,然电子束检测市场竞争日趋激烈,汉微科市占率约从2015年下半以来,已被应材及科磊抢去不少,相关业者表示,台积电及英特尔(Intel)已有部分机台改买应用材料的方案。
 
    除了汉微科将面临市占率衰退的压力外,汉微科本身研发能力与应材、科磊相较之下,未必有绝对优势,相关业者认为,汉微科未来3年内的成长不若以往强劲,出售予ASML反而更有竞争力。而汉微科预计今年第4季完成股分转换。
 
    晶圆制造龙头大厂台积电、三星电子(Samsung Electronic)、英特尔(Intel)目前都在积极推动极紫外光(EUV)微影技术,ASML成为主力合作的设备业者,呈现先进制程的世代交替。业界人士透露,英特尔将在7纳米制程转进EUV,台积电、三星则预计在5纳米制程转进。
 
    相关业者表示,进入5纳米世代之后,电子束检测的需求量会变大,ASML购并汉微科后确实可以加强EUV的检测能力,也可加快台积电等业者跨入EUV的速度,这场先期的检测设备大战,已经点燃了未来数年内半导体产业界先进制程的战火。
 
 
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